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環(huán)球信息:KAIST開發(fā)出1600PPI超高分辨率適用于VR/AR的顯示器
發(fā)布時間:2022-08-02 20:07:37 文章來源:CINNO
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CINNO Research產業(yè)資訊,根據韓媒ETNews報道,韓國科學技術院(KAIST)7月29日表示,電氣與電子工程部金尚賢(音譯)教授研究團隊利用單體式三維集成的優(yōu)勢,成功實現了1600PPI等效Micro LED顯示器。1600 PPI是適用于超高分辨率增強現實(AR)、虛擬現實(VR)顯示屏的分辨率,相當于2020年推出的Oculus(現Meta)的Meta Quest2(442 PPI)的3.6倍的顯示分辨率。


(資料圖)

單體式三維疊層式Micro LED顯示器的驅動圖像

單體式三維集成是一種在下部元件工藝后,形成上部薄膜層,并有序進行上部元件工藝,使上下部元件之間的排列圖最大化的技術。

作為一種用于實現超高分辨率顯示屏的新一代顯示元件,包括基于無機物的氮化銦鎵/氮化鎵(InGaN/GaN),或者,利用以磷化鋁鎵銦/磷化銦鎵(AlGaInP/GaInP)為代表的3-5(III-V)族化合物半導體的Micro LED元件作為核心材料和部件受到業(yè)界廣泛關注。與目前常用于電視、移動設備的OLED、LCD顯示屏相比,Micro LED具有高亮度、高對比度、像素壽命長等優(yōu)勢,作為新一代顯示元件,具有明顯優(yōu)勢。

但是,為了利用基于無機物的Micro LED制作顯示屏,將紅、藍、綠的每種顏色的像素從各自的基板上分離出來,轉移到顯示面板的封裝工藝至關重要。

目前使用中的“Pick-and-place”方法將每個像素都機械地移動并結合到顯示面板上,當像素縮小到小于幾十微米的水平時,機械對齊的精度就會降低。由于轉移率下降,很難實現超高分辨率的顯示屏。

為解決這些問題,研究團隊在顯示屏驅動用硅互補金屬氧化物半導體(以下簡稱Si CMOS)電路板上,采用了將紅色發(fā)光用LED作為整體式三維聚集的方式。該方法是在Si CMOS電路之上先通過晶片接合(Wafer binding)轉移Micro LED的膜層,再用光刻工藝實現像素的方法,去除了機械性的像素轉移工藝。此后,研究團隊在Si CMOS電路上通過從上到下(Top-down)連續(xù)的半導體工藝過程,成功演示出了高分辨率顯示器。

在此過程中,研究團隊設計了一種用于顯示屏的LED半導體層,而不是用于照明的基于無機物的LED半導體層,使用于發(fā)光的活性層的厚度降低到常規(guī)的三分之一水平,從而大大降低了像素形成所需的蝕刻工藝的難度,取得了此次研究成果。

另外,為避免下部顯示驅動電路性能下降,研究團隊利用在350度以下集聚上部III-V元件的晶圓接合等超低溫工藝,在上部元件集成后仍能保持下部驅動IC(Driver IC)的性能不變。

此次研究成果是將紅色Micro LED以三維疊層的方式集聚,成功實現了達1600PPI的世界級分辨率的研究,研究運用的單體式三維集聚的研究成果,為下一代超高分辨率顯示的實現提供了很高的方向指南。

金尚賢教授表示:“今后將擴大應用與此類似的工藝,制作出包含紅、綠、藍的全彩顯示屏(Full color display)?!?/p>

另外,這項研究是在三星未來技術培育中心的支持下進行的。

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